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                微流控平臺

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                橢偏儀——SE500

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                簡介


                SE500
                橢偏儀是一種利用光的偏振←態變化來進行■薄膜性質表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參∑ 數等性質。橢偏儀的主要原理是將自然光(紫外光、可見光以及紅ζ 外光)變成完√全偏振光後通過一定角度入射〗到樣品上,偏振光進入樣品介質後會反【射回到橢偏儀檢偏器╲內,由於樣品介質會對偏振光》的偏振態發生改變,而這ㄨ種改變會被橢偏儀精確測量,橢偏⌒ 儀就是利用這個介質對偏振光性質改變的原理來表征介質№的性質的。
                SE500型號采用雙光譜儀耦◇合實現250-1700nm超長波〓段的探測,可實嘶現對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究,同時可搭配自動平①臺掃描、自動變角、微光斑探測以◤及平臺加熱等功能滿足△不同應用需求。

                系統配置:

                 探測器:陣列探測器,

                光源:高功率的DUV-Vis-NIR復合光源

                軟件:TFProbe 3.3版本的軟件

                入射角ω度變化:手動調節

                 測量種類:薄膜厚度、折※射率和消光系數以及多層膜堆疊

                計算機:Intel雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

                電源:110–240V AC/50-60Hz,6A

                保修:一年的整機及零部件保修▅

                 

                規格參數


                波長範圍:250nm到1700 nm

                光斑尺寸:1mm至5mm可變

                樣品尺寸:直徑可達200mm

                測量厚度範圍*:?30μm

                測量時間:約1秒/位置點

                入射角範Ψ 圍:20到90度,5度間隔

                 重復性誤㊣差*:小於1 ?

                 

                可選項→配置:

                用於反射∑的光度測量或透射測量;

                用於々測量小區域的微小光斑;

                用於改變入射角度的自動量角器;

                X-Y成像平臺(X-Y模式,取代ρ-θ模式);

                加熱/致冷平臺;

                樣品垂直安裝角◤度計;

                波∮長可擴展到遠DUV或IR範圍;

                掃描單∑ 色儀的配置;

                聯合MSP的數字成像功ζ 能,可用於對樣█品的圖像進行測量等。

                 

                其他本就是金属『性』至宝選項配置:

                用於玻璃基底測量的特殊樣品架

                用於觀察樣品區的◥可視模塊

                加熱或▆制冷平臺

                可用於實時在線測ぷ量

                其他尺寸的樣品臺

                用於 Liquid Cell 的特殊配置能够争夺

                用於單波長或窄波段探測的單色掃描儀配置

                 

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                橢偏儀系▅列↓:SE200BA、SE200BM等

                自動掃描測試平臺:M100、M150、M200等

                未找到相ぷ應參數組,請於後臺屬性模板中添杀了他们加

                SE500簡介
                橢偏儀是一種利用□ 光的偏振態變化來進行薄膜性質品阶而已表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質。橢偏儀的主要原理是將自然光(紫外光、可見光以及紅︾外光)變成完█全偏振光後通過一定角度入射到轰隆隆祖龙身上陡然爆发出了一股庞大樣品上,偏振光進入樣品介質後會反射回到橢偏儀檢神级实力偏器內,由於樣品介質會對偏振光的偏振態發生改變,而這種改變會被橢偏儀精確測量,橢□偏儀就是利用這個介質對偏振光性質改變的原理來表征介¤質的性質的。
                SE500型號采用雙光譜儀耦合實現250-1700nm超長波段的探】測,可實現對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究,同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑亿万年前探測以及平臺加熱等功能滿足不同應用需求。

                波長範圍:250nm到1700 nm

                光斑尺寸:1mm至5mm可變

                樣品尺寸:直徑可達200mm

                測量厚度範圍*:?30μm

                測量時間:約1秒/位置點

                入射︾角範圍:20到90度,5度間隔

                 重復性誤差*:小於1 ?

                 

                可選項配置:

                用於反射的光度測量或】透射測量;

                用於測量小區域的微小小子光斑;

                用於改變入射角度的自動量角器;

                X-Y成像平臺(X-Y模式,取代ρ-θ模式);

                加熱/致冷平臺;

                樣品垂〖直安裝角度計;

                波長可⊙擴展到遠DUV或IR範圍;

                掃描單色儀的配置;

                聯合MSP的數字成像㊣功能,可用於對樣品的圖像進行測量等。

                 

                其他選項配置:

                用於玻璃基底測量的特殊樣品架

                用於觀察樣品區的王恒和董海涛都是一愣可視模塊

                加熱或眼中精光爆闪制冷平臺

                可用於實時在線測量

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                用於 Liquid Cell 的特殊配置

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                橢偏儀系哈哈一笑列嘲讽:SE200BA、SE200BM等

                自動掃描測試平臺:M100、M150、M200等

                暫未實現,敬請期待
                暫未實現,敬請期待

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